IBM представляет революционный материал для производства чипов
// 26 Ноября 2012
|
Возглавляемый корпорацией IBM альянс производителей электронных чипов (в состав которого вошли корпорации Chartered Semiconductor Manufacturing, Freescale, Infineon Technologies, Samsung Electronics, STMicroelectronics и Toshiba) объявил о готовности к вводу в эксплуатацию уникального материала под названием «high-k/metal gate».
Это революционное изобретение может использоваться для
производства полупроводниковых компонентов по 320-нанометровому
технологическому процессу.
Материал прошел тщательные испытания, которые показали, что
новые микросхемы отличаются от существующих решений повышенной
производительностью и предельно низким потреблением электроэнергии. На
принадлежащем IBM промышленном предприятии в городе Ист-Фишкилл (East Fishkill)
уже изготовлены опытные образцы чипов.
В скором времени образцы компонентов будут предоставлены в распоряжение
производителей оборудования, а поступление на рынок первых устройств на базе новых
чипов запланировано на будущий год, пишет www.mobile-tech-today.com.
|
|